Ilbersaglio planare molibdenoLa lavorazione avviene con lastre di alta qualità della nostra azienda. Ha le caratteristiche di alta densità, senza crepe interne e vesciche, superficie luminosa, colore uniforme e dimensioni accurate.
Piccoli bersagli di filatura del molibdeno sono elaborati da aste di alta qualità e hanno le caratteristiche di dimensioni accurate, superficie liscia e elevata purezza.
I bersagli rotanti del molibdeno di dimensioni regolari sono prodotti utilizzando il processo di pressatura isostatica a caldo e presentano alta densità (densità fino a 10,15 g / cm3), grani fini e buon stampaggio.
Densità convenzionale: 10g/cm³~10,15 g/cm³;
Densità speciale del processo: superiore a 10,15 g/cm³.
I requisiti per gli obiettivi di sputtering sono superiori a quelli dell'industria dei materiali tradizionali. I requisiti generali includono: dimensione, planarità, purezza, contenuto di impurità, densità, N/O/C/S, granulometria e controllo dei difetti; Tra cui: rugosità superficiale, valore di resistenza, uniformità delle dimensioni dei grani, composizione e uniformità della struttura, contenuto e dimensione di materia estranea (ossido), permeabilità magnetica, densità ultra-alta e grani ultra-fini, ecc. Il rivestimento di sputtering Magnetron è un nuovo tipo di metodo fisico di rivestimento a vapore. Utilizza un sistema di pistola elettronica per emettere e mettere a fuoco elettroni sul materiale da placcare, in modo che gli atomi sputati seguano il principio di conversione del momento e volano via dal materiale con energia cinetica superiore. Questo materiale placcato è chiamato un bersaglio sputtering. I materiali target di sputtering includono metalli, leghe, composti ceramici, ecc.
Il rivestimento di sputtering Magnetron è un nuovo tipo di metodo fisico di rivestimento del vapore. Rispetto al metodo di rivestimento di evaporazione, ha evidenti vantaggi sotto molti aspetti. Essendo una tecnologia relativamente matura che è stata sviluppata, lo sputtering magnetron è stato applicato in molti campi.
Tecnologia di sputtering, sputtering è una delle principali tecnologie per la preparazione di materiali a film sottile. Utilizza ioni generati da una sorgente ionica per accelerare e raccogliere in vuoto per formare un fascio ionico ad alta velocità che bombarda la superficie solida. Gli ioni e gli atomi sulla superficie solida vengono generati. Lo scambio di energia cinetica fa sì che gli atomi sulla superficie solida lascino il solido e si depositino sulla superficie del substrato. Il solido bombardato è la materia prima per la preparazione di film sottili depositati dallo sputtering, che è chiamato bersaglio sputtering. Vari tipi di materiali a film sottile sputted sono stati ampiamente utilizzati in circuiti integrati a semiconduttore, fotovoltaico solare, supporti di registrazione, schermi piatti e rivestimenti superficiali del pezzo in lavorazione.
Gli obiettivi di sputtering sono utilizzati principalmente nelle industrie dell'elettronica e dell'informazione, quali circuiti integrati, stoccaggio di informazioni, display a cristalli liquidi, memorie laser, dispositivi di controllo elettronici, ecc.; possono essere utilizzati anche nel campo del rivestimento del vetro; possono anche essere utilizzati in materiali resistenti all'usura, resistenza alla corrosione ad alta temperatura, forniture decorative e altre industrie.
Gli obiettivi di molibdeno sono ampiamente utilizzati in molti campi. I seguenti sono alcuni usi comuni di obiettivi di molibdeno:
1. deposizione sottile del film: gli obiettivi del molibdeno possono essere utilizzati per preparare film sottili del molibdeno facendo uso della deposizione fisica del vapore (PVD) o dello sputtering magnetron. Questi film di solito hanno eccellenti proprietà conduttive, alti punti di fusione e resistenza alla corrosione, e quindi sono spesso utilizzati per preparare strati conduttivi, strati di barriera, linee di collegamento del metallo e altre applicazioni. I film sottili di molibdeno sono un materiale comune in aree come la produzione di circuiti integrati e le celle solari a film sottile.
2. attrezzature a vuoto e rivestimento della barriera termica: A causa dell'alto punto di fusione del molibdeno, basso tasso di evaporazione e buona stabilità termica, gli obiettivi di molibdeno possono essere utilizzati per preparare componenti in attrezzature a vuoto, come valvole in lega di tungsteno-molibdeno, riscaldatori di tungsteno-molibdeno, ecc.
Inoltre, il molibdeno può anche essere utilizzato per preparare rivestimenti di barriera termica in applicazioni ad alta temperatura per migliorare la resistenza al calore dei materiali e proteggere i materiali di base.
3. Rivestimento ottico:Obiettivi per il molibdenosono utilizzati anche in campo ottico. Depositando sottili pellicole di molibdeno, possono essere prodotti rivestimenti con proprietà ottiche specifiche, come specchi, filtri e pellicole di trasmissione. I film di molibdeno hanno buone proprietà riflettenti nella gamma spettrale infrarossa e sono quindi comunemente utilizzati in ottica infrarossa e sistemi laser.
4. Dispositivi elettronici: Gli obiettivi di molibdeno hanno anche applicazioni importanti nella produzione di dispositivi elettronici. Ad esempio, nella tecnologia di visualizzazione, i film di molibdeno possono essere utilizzati come backsheets per display con buona conducibilità elettrica e stabilità termica.
Inoltre, il molibdeno viene utilizzato anche come contatto, elettrodo e materiale metallico nei dispositivi elettronici.
5. ricerca dei materiali e applicazioni di laboratorio: gli obiettivi di molibdeno sono anche ampiamente utilizzati nella ricerca scientifica e nelle applicazioni di laboratorio. Può essere utilizzato come materiale bersaglio per studiare la crescita del film, la modifica della superficie e le proprietà del materiale.
Inoltre, gli obiettivi del molibdeno possono essere utilizzati anche per la preparazione del campione del microscopio elettronico (SEM), gli standard dello spettrometro a fluorescenza a raggi X (XRF) e altre applicazioni
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