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Dettagli del prodotto
Materiale: W1
Tipo: bersaglio piatto, bersaglio rotante
Forma: tubolare, quadrato, rotondo, striscia lunga
Purezza: 99,95%, 99,97%
Densità convenzionale: 19.0g/cm3~19.2g/cm3
Alta densità: > 19,2g/cm3
Dimensione: elaborato secondo il disegno per soddisfare i requisiti di precisione
Caratteristiche del prodotto: alta densità, elevata purezza, grani fini, buona densità
Gli usi principali degli obiettivi di tungsteno includono:
1. Preparazione di dispositivi elettronici: obiettivi di tungsteno sono ampiamente utilizzati nella preparazione di dispositivi elettronici, come circuiti integrati (IC), display a schermo piatto (FPD), celle solari, ecc Durante il processo di preparazione, il bersaglio di tungsteno è posizionato in una pistola bersaglio in una camera a vuoto, e gli atomi di tungsteno o ioni sono rilasciati attraverso il bombardamento ionico o fasci di elettroni, che sono depositati sulla superficie del substrato per formare il film di tungsteno richiesto.
Gli utenti di obiettivi di tungsteno includono produttori di semiconduttori, produttori di display, industria fotovoltaica, produttori di dispositivi elettronici, istituti di ricerca scientifica, ecc Queste industrie e unità ampiamente utilizzano obiettivi di tungsteno nei campi della preparazione di film, ricerca dei materiali e produzione di dispositivi elettronici.
Flusso di processo:
Obiettivo piatto: tungsteno polvere-pressatura-sinterizzazione-laminazione-lavorazione-profonda-trattamento-superficie-prodotto finito-collaudo-imballaggio
Piccolo obiettivo rotatorio: tungsteno polvere-pressatura-sinterizzazione-forgiatura-lavorazione profonda-trattamento superficiale-prodotto finito-collaudo-imballaggio
Grande obiettivo rotatorio: tungsteno polvere-pressatura-sinterizzazione-lavorazione profonda-trattamento superficiale-prodotto finito-collaudo-imballaggio
Materiale: W1
Tipo: bersaglio piatto, bersaglio rotante
Forma: tubolare, quadrato, rotondo, striscia lunga
Purezza: 99,95%, 99,97%
Densità convenzionale: 19.0g/cm3~19.2g/cm3
Alta densità: > 19,2g/cm3
Dimensione: elaborato secondo il disegno per soddisfare i requisiti di precisione
Caratteristiche del prodotto: alta densità, elevata purezza, grani fini, buona densità
Gli usi principali degli obiettivi di tungsteno includono:
1. Preparazione di dispositivi elettronici: obiettivi di tungsteno sono ampiamente utilizzati nella preparazione di dispositivi elettronici, come circuiti integrati (IC), display a schermo piatto (FPD), celle solari, ecc Durante il processo di preparazione, il bersaglio di tungsteno è posizionato in una pistola bersaglio in una camera a vuoto, e gli atomi di tungsteno o ioni sono rilasciati attraverso il bombardamento ionico o fasci di elettroni, che sono depositati sulla superficie del substrato per formare il film di tungsteno richiesto.
2. Materiali conduttivi: gli obiettivi di tungsteno sono spesso utilizzati nella preparazione di materiali conduttivi a causa della loro buona conducibilità e alto punto di fusione. Possono essere utilizzati per preparare resistenze ad alta temperatura, materiali dell'elettrodo, dispositivi elettronici ad alta potenza, ecc.
Gli utenti di obiettivi di tungsteno includono produttori di semiconduttori, produttori di display, industria fotovoltaica, produttori di dispositivi elettronici, istituti di ricerca scientifica, ecc Queste industrie e unità ampiamente utilizzano obiettivi di tungsteno nei campi della preparazione di film, ricerca dei materiali e produzione di dispositivi elettronici.
Flusso di processo:
Obiettivo piatto: tungsteno polvere-pressatura-sinterizzazione-laminazione-lavorazione-profonda-trattamento-superficie-prodotto finito-collaudo-imballaggio
Piccolo obiettivo rotatorio: tungsteno polvere-pressatura-sinterizzazione-forgiatura-lavorazione profonda-trattamento superficiale-prodotto finito-collaudo-imballaggio
Grande obiettivo rotatorio: tungsteno polvere-pressatura-sinterizzazione-lavorazione profonda-trattamento superficiale-prodotto finito-collaudo-imballaggio
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